Ganzgenomextraktionssystem
keine Frist angegebenLandesamt für Natur, Umwelt und Klima NRW· Recklinghausen· Lieferung· Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)Wert k. A.
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Elektronenstrahl-Lithographiesystem
keine Frist angegebenEU-weit (Oberschwelle)
- Auftraggeber
- Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
- Ort
- Garching · München, Landkreis
- Branche (CPV)
- 38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
- Auftragsart
- Lieferung
- Sektor
- Bildung
- Geschätzter Wert
- Wert k. A.
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Veröffentlicht
- 25.10.2026
- Abgabefrist
- keine Frist angegeben
Leistungsbeschreibung
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.
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Datenquelle: oeffentlichevergabe.de (OpenData). Maßgeblich ist die amtliche Bekanntmachung der jeweiligen Vergabestelle.